全自動硅片甩干機是一種專門用于半導體制造過程中的高精密設備，主要用于清洗和干燥硅片。這種設備通過自動化的流程，能夠高效地去除硅片表面的水分和其他殘留物，確保硅片的清潔度和干燥度，從而滿足后續工藝的要求。

主要特點：

彩色液晶觸摸屏實時監控，可存儲多種工藝菜單

腔體和轉架采用316不銹鋼，電化學拋光處理

去離子水電阻率監控功能

無刷電機驅動

氮氣溫度控制

轉軸氮氣密封

具有鎖蓋防護功能

故障診斷、顯示、報警功能

可提用戶特殊要求配置

采用高潔凈度的旋轉沖洗甩干功能，能夠適應不同直徑和形狀的片式材料的清洗需求

設備設計可以適應不同直徑的硅片，包括方形和其他特殊形狀的材料。

采用全自動控制，包括去離子水沖洗和加熱的氮氣干燥，實現晶片襯底后的濕化學方法的自動化處理

設備具備多項技術性能指標，如電源電壓、頻率、功率、絕緣電阻等，確保操作的安全性和穩定性

包括使用氮氣和去離子水的相關安全性技術要求，如壓力、耗量、接口管徑和過濾精度等

部分設備采用PLC和觸摸屏控制，實現整個過程的智能化，具有故障實時顯示和報警功能

設備設計考慮了節能和效率，例如，整個甩干過程一般只需5-6分鐘

主要部件采用耐腐蝕不銹鋼，并進行電化學拋光處理，以提高設備的耐用性和清潔度

旋轉機構經過精密動平衡處理，保證工作時的平衡性，并采用特種減振器以實現精密減振和阻尼

設備支持多種硅片規格、不同尺寸的掩模，滿足不同應用需求。